Współpraca Gekko Photonics i OMC ENVAG wsparciem dla zakładów chemicznych

• Strona główna
• Artykuły
• Współpraca Gekko Photonics i OMC ENVAG wsparciem dla zakładów chemicznych

2026-03-27

Oferowana przez Gekko Photonics technologia optyczna przekłada się na szybkie wdrożenia, pewność działania i pełną kontrolę nad kluczowymi etapami produkcji. Co ją wyróżnia?

Po pierwsze: błyskawiczne wdrożenie - analizator działa niemal od razu, bez długich przygotowań.

Po drugie: automatyczne czyszczenie sond - minimum obsługi, maksimum stabilności, także przy mediach wymagających (np. lepkich).

Po trzecie: algorytmy odporne na zmienność procesu - pewne i powtarzalne pomiary w każdych warunkach.

Po czwarte: rozszerzony raport wykonalności - pełniejszy obraz procesu i szybsze decyzje technologiczne.

Po piąte: monitorowanie dodatkowych parametrów - większa kontrola, m.in. dzięki pomiarowi współczynnika załamania.

Po szóste: analiza mieszanin wieloskładnikowych - precyzyjne wyniki nawet w złożonych aplikacjach.

Po siódme: odczyt z wielu sond jednocześnie - nadzór kilku punktów procesu równolegle i wyższa precyzja decyzji.

- W odróżnieniu od tradycyjnych dostawców sprzętu, działamy przede wszystkim jako strategiczny partner procesowy. Zanim zaproponujemy rozwiązania, zespół dokładnie analizuje stan faktyczny i w ślad za tym identyfikuje newralgiczne punkty procesu, linie generujące największe straty, czy obszary odpowiadające za nadmierną produkcję odpadów. Takie podejście pozwala nam nie tylko wdrożyć precyzyjną kontrolę jakości, lecz także realnie zoptymalizować działanie aplikacji. Zaczynamy od rozmów i analizy danych, tworzymy coś w rodzaju mapy bólu procesu. Dopiero później dobieramy odpowiednie narzędzia – czy to będą modele, algorytmy, czy dodatkowe analizatory, zależy od tego, co pokazuje diagnoza – mówi Robert Stachurski, prezes zarządu Gekko Photonics.

Analizator opracowany przez Gekko Photonics i wdrażany przez OMC ENVAG, to nie tylko nowa technologia, ale zupełnie nowa jakość pracy z procesem. Dane z reaktorów, linii rafineryjnych czy instalacji ściekowych trafiają bezpośrednio do analizatorów Spectrally, gdzie są natychmiast poddawane analizie przez zaawansowane algorytmy i sztuczną inteligencję. To właśnie ta technologia pozwala wychwycić nawet najdrobniejsze zmiany w widmie i trendach procesowych.

Rozwiązanie zostało zaprojektowane z myślą o realnych warunkach przemysłowych: od agresywnej chemii, przez wysokie temperatury, po zabrudzenia i osady. W praktyce oznacza to trwałe sondy i światłowody montowane bezpośrednio w linii, odporny hardware oraz oprogramowanie, które bez problemu łączy się z DCS i innymi systemami zakładowymi.

OMC ENVAG wnosi do współpracy doświadczenie integratora i partnera operacyjnego, który od ponad 33 lat buduje i utrzymuje systemy analityczne w polskich zakładach. Firma nie tylko dostarcza aparaturę, ale również projektuje kompletne zabudowy, odpowiada za integrację z automatyką oraz zapewnia późniejszy serwis, gwarantując ciągłość pracy instalacji.

Gekko Photonics odpowiada za warstwę koncepcyjną i analityczną systemu — od modeli algorytmicznych i interpretacji danych procesowych po logikę działania całego rozwiązania. OMC ENVAG przejmuje natomiast pełną odpowiedzialność za wdrożenie: przygotowanie projektu, montaż, instalację sond i światłowodów, integrację z istniejącą automatyką oraz późniejsze utrzymanie instalacji. Dzięki temu zakład otrzymuje technologię, która nie tylko mierzy, ale realnie wspiera jego kluczowe cele operacyjne. To użytkownik definiuje priorytety — czy chodzi o skrócenie czasu wsadu, zmniejszenie liczby partii poza specyfikacją, czy ograniczenie ryzyk środowiskowych — a rozwiązanie zostaje skonfigurowane tak, aby dostarczać dane i funkcjonalności bezpośrednio wzmacniające te obszary.

W pilotażowym wdrożeniu w zakładzie produkującym żywice syntetyczne sondy Spectrally zostały zainstalowane bezpośrednio w reaktorach, a algorytmy AI analizowały proces w czasie rzeczywistym. Dzięki temu zakład odszedł od decyzji opartych wyłącznie na doświadczeniu i opóźnionych wynikach laboratoryjnych. W rezultacie, średni czas partii skrócony o ok. 6%, prawie o 30% mniej wsadów wymagających przeróbki i realne oszczędności surowców. Dodatkowo produkcja stała się bardziej przewidywalna, a planowanie obciążenia linii - znacznie łatwiejsze. Technologia Spectrally przełożyła dane na konkretne decyzje, podnosząc efektywność, stabilność i rentowność procesu, realizując produkcję zgodną z wymaganiami klienta.

Inny przykład dotyczy instalacji ścieków przemysłowych z dużym udziałem zanieczyszczeń ropopochodnych. Do tej pory personel reagował na wahania ładunku z opóźnieniem, opierając się głównie na wynikach pomiarów z laboratorium – opóźnionych, kosztownych i czasochłonnych. Zastosowanie sond optycznych i analizatorów Spectrally na wcześniejszych punktach oraz algorytmów wychwytujących zmiany w składzie ścieków pozwoliło wcześniej identyfikować miejsce pochodzenia zanieczyszczenia na podstawie składu ścieków. W ciągu roku liczba epizodów zbliżania się do granicznych parametrów zrzutu spadła o około 30%, a zakład zyskał większą elastyczność w sterowaniu procesem, bez konieczności pracy w ciągłym, alarmowym trybie.

W obu projektach kluczową rolę odegrały analizatory, algorytmy oraz sondy odporne na wymagające czynniki procesowe. Jednak dopiero połączenie tych elementów z właściwym zrozumieniem przebiegu produkcji i precyzyjnie zaplanowaną integracją, przyniosło realny efekt biznesowy.

Gekko PhotonicstechnologiaOMC ENVAG