2021-03-13 / Autor: Janusz Zajączkowski, menadżer branży Energetyka, Endress+Hauser Polska sp. z o.o. / Artykuł sponsorowany
Armatura do wysuwalnego montażu czujnika pH
Wymienione wyżej warunki pracy wymagają zastosowania armatury umożliwiającej automatyczne wsuwanie i wysuwanie czujnika z procesu, podłączenie środków myjących, wody lub buforów kalibracyjnych, oraz pewne odcięcie czujnika od mierzonej zawiesiny na czas mycia lub kalibracji.
Z szerokiego programu armatur czujników pH z napędem do pracy automatycznej dostępnych w ofercie Endress+Hauser, najbardziej predestynowanym do omawianej aplikacji jest typ CPA473 z kulowym zaworem odcinającym. Zawór ten zapewnia odcięcie od procesu w sposób dostosowany do pracy zawiesinach ściernych o dużej skłonności do zabrudzania. Układ nie zawiera o-ringów zwilżanych mierzonym medium, oraz komorę płuczącą zaprojektowaną dla intensywnego mycia. Jako materiał trzpienia armatury z uchwytem czujnika rekomendujemy stosowanie stopu klasy Hastelloy, celem uzyskania odpowiedniej odporności na ścieranie w warunkach rzeczywistych przepływów zawiesiny występujących w odcinku pomiarowym. Dodatkowo jednak, z punktu widzenia ochrony czujnika pomiarowego przed nadmiernym zużyciem, jednocześnie zalecamy ograniczenie liniowej prędkości przepływu medium w punkcie pomiaru do maksymalnie 2 m/s.
Funkcje załączania mediów myjących i buforów kalibracyjnych na blok zaworowy armatury czujnika realizowane są poprzez układ zaworów zlokalizowanych w jednostce pneumatycznej systemu. Pompy membranowe podające poszczególne płyny pod ciśnieniem 6-8 barów umieszczone są bezpośrednio na kanistrach z płynami.
Liquiline Control w wykonaniu panelowym przeznaczony jest do montażu w czystym pomieszczeniu lub kontenerze pomiarowym. W razie montażu w warunkach obiektowych, układ montowany jest w szafie pomiarowej o stopniu ochrony IP dostosowanym do lokalnych wymagań.
Stacja Liquiline Control jako jednostka centralna układu
Przetwarzanie sygnałów wejściowych z cyfrowych czujników pH i potencjału redoks odbywa się w dedykowanej stacji procesowej Liquiline Control, od której nowy układ wziął swoją nazwę. Stacja ta stanowi jednocześnie przetwornik pomiarowy oraz centralną jednostkę sterującą systemu opartą na komputerze przemysłowym.
Rodzina przetworników analitycznych Liquiline jest rozwijana od 2004 roku pod kątem integracji wszystkich parametrów mierzonych w ramach systemu inteligentnych czujników Memosens, a także analizatorów wody i systemów automatycznego poboru próbek. Liquiline stanowi więc w programie Endress+Hauser platformę sprzętowo - software’ową, zapewniającą nie tylko unifikację układów analizy cieczy, ale również coraz szerzej wyposażaną w funkcje elementów wykonawczych.
Kolejnym etapem rozwoju platformy Liquiline jest właśnie omawiana integracja systemu automatycznych pomiarów pH, eliminująca potrzebę stosowania oddzielnego sterownika dla części pneumatycznej i hydraulicznej układu pomiarowego. Jest to podstawowa cecha odróżniająca obecny system Liquiline Control od jego poprzednika TopCal S.
Stacja Liquiline Control wyposażona jest również w graficzny wyświetlacz dotykowy 4,3” z wizualizacją stanu poszczególnych elementów układu pomiarowego. Oprogramowanie systemu pozwala na indywidualne ustawienie cykli mycia i kalibracji ustroju pomiarowego, a ponadto, parametryzację poszczególnych faz podawania poszczególnych mediów, co umożliwia w dowolnym momencie korektę nastaw zależnie od indywidualnych doświadczeń z danego obiektu, a także organizacji służb utrzymania ruchu.
Ważną zaletą systemu jest samoczynne rozpoznawanie przez układ przetwarzania rodzaju i parametrów podłączonego czujnika Memosens. Automatycznie sczytywane są przy tym dane kalibracyjne i diagnostyczne czujnika pH. Dzięki temu, jeśli system zasygnalizuje potrzebę wymiany elektrody pomiarowej celem przeprowadzenia jej zewnętrznego czyszczenia lub regeneracji, pracownik obsługi obiektu może dokonać takiej wymiany wykorzystując czysty i skalibrowany czujnik przygotowany wcześniej przez specjalistę z laboratorium. Ogranicza to ryzyko i czas niedyspozycyjności pomiaru wskutek stanów awaryjnych lub obsługi systemu.
Dowiedz się więcej: https://eh.digital/3vig2Ju
WięcejSklep
Książka: Surfaktanty i ich zastosowanie w produktach kosmetycznych
95.00 zł
Książka: Atlas Mikrobiologii Kosmetyków
94.00 zł
Książka: Zagęstniki (modyfikatory reologii) w produktach kosmetycznych
78.00 zł
“Chemia i Biznes” nr 3/2026
30.00 zł
"Kosmetyki i Detergenty" nr 2/2026
30.00 zł
Emulsje i inne formy fizykochemiczne produktów kosmetycznych. Wprowadzenie do recepturowania
108.00 zł
WięcejNajnowsze
WięcejNajpopularniejsze
WięcejPolecane
WięcejSonda
Czy w Twojej firmie brakuje specjalistów z branży chemicznej (inżynierowie procesowi, chemicy, automatycy)?
WięcejW obiektywie
Druga edycja Międzynarodowej Konferencji Przemysłu Kosmetycznego potwierdziła potrzebę spotkań branży kosmetycznej
170 osób uczestniczyło w drugiej edycji Międzynarodowej Konferencji Przemysłu Kosmetycznego....
Jubileuszowa edycja Międzynarodowej Konferencji Przemysłu Detergentowego pełna nowości i inspiracji
175 osób uczestniczyło w 15. edycji Międzynarodowej Konferencji Przemysłu Detergentowego, która...
Plastpol w Kielcach miejscem prezentacji maszynowych nowości
15 tysięcy zwiedzających z Europy, Azji i Afryki, 660 wystawców z 36 krajów, setki pracujących...
Paryż stolicą przemysłu kosmetycznego
W Paris Expo Porte de Versailles odbyły się targi in-cosmetics Global 2026 – największe na świecie...